基于X射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	基于X射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法
专利类别:	发明专利
申请号:	200810100954.4
申请日期:	2008-02-27
专利号:	200810100954.4
第一发明人:	刘兴华，徐德钰，朱效立，谢常青，刘明
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:

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