一种HfSiON高K栅介质材料的腐蚀剂及腐蚀方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种HfSiON高K栅介质材料的腐蚀剂及腐蚀方法
专利类别:	发明专利
申请号:	200910304802.0
申请日期:	2009-07-24
专利号:	200910304802.0
第一发明人:	李永亮，徐秋霞
其它发明人:
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专利摘要:
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