一种纳米压印光刻机 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种纳米压印光刻机
专利类别:	发明专利
申请号:	200710178789.X
申请日期:	2007-12-05
专利号:	200710178789.X
第一发明人:	姜骥，谢常青，岑专专，商立伟，刘兴华，刘明
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:

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