专利名称: 一种制作用于极紫外光刻的铬侧墙衰减型移相掩模的方法
专利类别: 发明专利
申请号: 201110409784.X
申请日期: 2011-12-09
专利号:
第一发明人: 李海亮,谢常青,刘明,史丽娜,朱效立,李冬梅
其它发明人:
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实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
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