一种先栅工艺中叠层金属栅结构的制备方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种先栅工艺中叠层金属栅结构的制备方法
专利类别:	发明专利
申请号:	PCT/CN2011/071055
申请日期:	2011-02-17
专利号:
第一发明人:	徐秋霞，李永亮
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
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实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:

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