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专利名称: 一种隔离结构及制造方法、以及具有该结构的半导体器件
专利类别: 发明专利
申请号: PCT/CN2011/071459
申请日期: 2011-03-02
专利号:
第一发明人: 骆志炯，尹海洲，朱慧珑，钟汇才
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:
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