专利名称: 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法
专利类别: 发明
申请号: 200810116381.4
申请日期: 2008-07-09
专利号: 200810116381.4
第一发明人: 赵珉,朱效立,陈宝钦,刘明
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