化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法
专利类别:	发明
申请号:	201110388504.1
申请日期:	2011-11-29
专利号:	ZL201110388504.1
第一发明人:	徐勤志,陈岚
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:	EDA中心

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