基片离子均匀注入的方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	基片离子均匀注入的方法
专利类别:	发明
申请号:	201010209816.7
申请日期:	2010-06-25
专利号:	201010209816.7
第一发明人:	刘杰,汪明刚,夏洋,李超波,罗威,罗小晨,李勇滔
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:	八室一组

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