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专利名称: 金属栅层/高K栅介质层的叠层结构的刻蚀方法
专利类别: 发明专利
申请号: 201010269029.1
申请日期: 2010-08-31
专利号: ZL201010269029.1
第一发明人: 李永亮
其它发明人: 李永亮;徐秋霞
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况: 授权
专利证书号: ZL201010269029.1
专利摘要:
其它备注: 中国科学院微电子研究所
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