沟槽隔离结构及其形成方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	沟槽隔离结构及其形成方法
专利类别:	发明专利
申请号:	201010552318.2
申请日期:	2010-11-19
专利号:	ZL201010552318.2
第一发明人:	钟汇才
其它发明人:	钟汇才;梁擎擎;尹海洲
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	ZL201010552318.2
专利摘要:
其它备注:	中国科学院微电子研究所

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