晶体管、晶体管制作方法及包括该晶体管的半导体器件 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	晶体管、晶体管制作方法及包括该晶体管的半导体器件
专利类别:	国际专利
申请号:	US13/698,276
申请日期:	2011-11-30
专利号:	US8,895,403
第一发明人:	范正萍
其它发明人:	梁擎擎;钟汇才;朱慧珑
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	US8,895,403
专利摘要:
其它备注:	中国科学院微电子研究所

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