一种分子尺度界面SiO2的形成和控制方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种分子尺度界面SiO2的形成和控制方法
专利类别:	国际专利
申请号:	PCT/CN2012/071703
申请日期:	2012-02-28
专利号:	US8,822,292
第一发明人:	徐秋霞
其它发明人:	徐秋霞;许高博
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	US8,822,292
专利摘要:
其它备注:	中国科学院微电子研究所

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