一种源漏区、接触孔及其形成方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种源漏区、接触孔及其形成方法
专利类别:	国际专利
申请号:	GB1122081.1
申请日期:	2011-02-18
专利号:	GB2,493,226
第一发明人:
其它发明人:	尹海洲;朱慧珑;骆志炯
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	GB2,493,226
专利摘要:
其它备注:	中国科学院微电子研究所

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