浅沟槽隔离结构、其制作方法及基于该结构的器件 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	浅沟槽隔离结构、其制作方法及基于该结构的器件
专利类别:	国际专利
申请号:	PCT/CN2011/001281
申请日期:	2011-08-03
专利号:	US9070744
第一发明人:	闫江
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:

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