当前位置 首页 科研工作 科研产出 专利
专利名称: 高K栅介质/金属栅叠层栅结构刻蚀后聚合物去除方法
专利类别: 发明专利
申请号: 201010541134.6
申请日期: 2010-11-10
专利号: 201010541134.6
第一发明人: 徐秋霞;李永亮
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况: 授权
专利证书号: 201010541134.6
专利摘要:
其它备注: 十室
中国科学院微电子研究所版权所有 邮编：100029
单位地址：北京市朝阳区北土城西路3号，电子邮件：webadmin@ime.ac.cn
京公网安备110402500036号，京ICP备05002781号-1