当前位置 首页 科研工作 科研产出 专利
专利名称: 半导体腔室用压片装置
专利类别: 发明专利
申请号: 201110408402.1
申请日期: 2011-12-09
专利号: 201110408402.1
第一发明人: 李超波;屈芙蓉;陈瑶;刘传钦;夏洋
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况: 授权
专利证书号: 201110408402.1
专利摘要:
其它备注: 八室一组
中国科学院微电子研究所版权所有 邮编：100029
单位地址：北京市朝阳区北土城西路3号，电子邮件：webadmin@ime.ac.cn
京公网安备110402500036号，京ICP备05002781号-1