一种垂直沟道型三维半导体存储器件及其制备方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	一种垂直沟道型三维半导体存储器件及其制备方法
专利类别:	国际专利
申请号:	PCT/CN2012/086511
申请日期:	2012-12-13
专利号:	9,437,609
第一发明人:	霍宗亮;刘明
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	9,437,609
专利摘要:
其它备注:	微电子重点实验室

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