| 专利名称: | 化学机械抛光模拟方法及其去除率计算方法 |
| 专利类别: | 发明专利 |
| 申请号: | 201310576967.X |
| 申请日期: | 2013-11-18 |
| 专利号: | ZL201310576967.X |
| 第一发明人: | 马天宇;陈岚;孙艳 |
| 实施情况: | 授权 |
| 专利证书号: | ZL201310576967.X |
| 其它备注: | EDA中心 |
| 专利名称: | 化学机械抛光模拟方法及其去除率计算方法 |
| 专利类别: | 发明专利 |
| 申请号: | 201310576967.X |
| 申请日期: | 2013-11-18 |
| 专利号: | ZL201310576967.X |
| 第一发明人: | 马天宇;陈岚;孙艳 |
| 实施情况: | 授权 |
| 专利证书号: | ZL201310576967.X |
| 其它备注: | EDA中心 |
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