利用原子层沉积制备薄膜的方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	利用原子层沉积制备薄膜的方法
专利类别:	发明专利
申请号:	201210552777.X
申请日期:	2012-12-18
专利号:	201210552777.X
第一发明人:	解婧;李超波;夏洋
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:	201210552777.X
专利摘要:
其它备注:	八室一组

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