| 专著名称: | CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
| 研究中心: | |
| 首席研究员: | |
| 主编单位: | CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
| 出版时间: | 2012-08-01 |
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| 主编: | |
| 编写人员: | 王文武 |
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| 编者字数: | |
| 著作性质: | 微电子学 |
| 编辑出版单位: | CMOS技术高k栅介质High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology |
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| 参编内容: | CMOS技术高k栅介质 |
| 著作简介: | |
| 其它备注: | 国外出版-外文 |
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