10月11日，日本尼康公司荣誉顾问、前董事长吉田庄一郎先生一行访问中科院微电子所并作学术报告。科技部副部长曹健林、国家科技重大专项02专项咨询委主任马俊如，科技部重大专项办公室、科技部高新技术发展及产业化司、科技部国际合作司领导出席交流会。上海微电子装备有限公司、中芯国际集成电路制造有限公司（北京）、中科院长春光机所、清华大学等光刻设备产业技术创新战略联盟成员单位及多名同行专家参加此次交流活动。中科院微电子所所长叶甜春主持交流会。
曹健林副部长对吉田庄一郎先生的访问表示热烈欢迎，希望通过此次交流活动加深中日两国科学家的相互了解，并建议双方未来可在优先领域加强基础科研项目合作，发展长期稳定的合作伙伴关系，建立产学研合作平台。
吉田庄一郎先生题为“半导体光刻机的历史与革新”的主题学术报告，结合自己在尼康公司多年工作的经历，通过对半导体光刻机的演变历史和目前传统光刻机面临的挑战，预测了下一代光刻机(NGL: Next Generation Lithography) 的发展方向和趋势。报告后，吉田庄一郎先生和参会人员就光刻技术发展趋势及关键技术问题进行了讨论交流，并对大家的提问给予了积极解答。
参会科研人员一致认为吉田庄一郎先生主题演讲对正在从事的国家光刻机产业的发展与研究有着积极的指导作用，都感到受益匪浅。希望中、日双加深合作交流，共同推进光刻机产业的发展。
吉田庄一郎，1932年出生于东京。1956年毕业于东京大学工学系精密工学科，同年进入日本光学工业公司（现为尼康公司）。从事天体望远镜、分光器等产品的设计，后着手开发用于制造超LSI的缩小投影型曝光装置（步进机）。历经精机事业部部长等职后，于1997年成为社长、2001年成为会长（董事长）兼CEO。2005年起担任尼康公司顾问。1985年至1990年间在新技术开发事业团（现为科学技术振兴机构）的创造科学技术项目“吉田纳米机构”曾任总负责人，也曾任过日本半导体设备协会（SEAJ）、国际半导体设备与材料协会（SEMI）、精密工学会等组织的会长。1991年获颁蓝绶褒章、2003年获颁法国荣誉勋章、2006年获颁美国电气与电子工程师学会（IEEE）的罗伯特•诺伊斯奖。
吉田庄一郎作报告
曹健林副部长致辞
报告会现场
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