“高精度微纳结构掩模制造核心技术”项目荣获2013年国家技术发明二等奖

　　中共中央、国务院1月10日上午在北京人民大会堂隆重举行国家科学技术奖励大会。党和国家领导人习近平、李克强、刘云山、张高丽出席大会并为获奖代表颁奖。微电子所和无锡华润微电子有限公司共同承担的“高精度微纳结构掩模制造核心技术”项目获得2013年国家技术发明二等奖。  

　　“高精度微纳结构掩模制造核心技术”项目主要完成人为刘明，谢常青，叶甜春，陈宝钦，卞福良，龙世兵。该项目属于信息领域，掩模是集成电路和微纳制造的“模具”和基准，是其发展和性能提升的重要基础。本项目在高精度/高效率兼顾的制造技术、多元化衬底上大高宽比纳米结构制造技术、复杂结构图形的高保真自动处理和移相掩模增强技术等方面取得多项突破，形成了掩模行业13项国家标准，授权发明专利36项,软件著作权2项。发表学术论文107篇，SCI他引287次。用户覆盖全国并出口到欧美等国家，为多项国家重大工程提供了核心元件。 

　　国家科学技术奖旨在奖励为我国科学技术事业发展做出杰出贡献的科技工作者。希望全体科研人员再接再厉，将微电子所各类优秀科研成果更好地展示出去，为我国微电子科技事业的不断发展做出贡献。