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美国Coventor公司顾江江博士、赵大龙博士来微电子所访问交流

稿件来源: 发布时间:2015-10-16
    109日,美国Coventor公司顾江江博士、赵大龙博士应邀来微电子所进行学术交流,共同作了题为“Virtual Fabrication Integrated Process Modeling for Advanced Technology”的学术报告。微电子所科研人员、研究生共30余人参加了交流会。交流会由微电子所王盛凯副研究员主持。 

  顾江江博士、赵大龙博士在报告中介绍了碳纳米管器件集成工艺与集成电路应用的最新研究进展,详细讲解了一种基于行为参数“Behavioral Parameters”的集成技术模型,此模型能够通过软件模拟和预测各种结构器件的工艺集成过程,有助于开展相关领域研究工作。与会人员就相关技术问题与顾江江博士、赵大龙博士进行了深入的讨论与交流,就未来在相关科研领域的合作达成共识。 

  顾江江博士、赵大龙博士现任美国Coventor公司研发工程师,主要从事先进技术节点上集成工艺模拟、开发以及中国大陆和台湾地区的技术推广工作。  


交流会现场 

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