一、项目名称
颗粒清洗机改造项目。
二、单一来源采购理由说明
中科院先导C 825项目对晶圆表面颗粒、金属离子沾污均提出了很高的清洗要求。微电子所购置的单片清洗机（设备型号：SPVII（Ultra C SAPS 230））已使用近10年，且本台设备不具备颗粒清洗与金属离子沾污清洗能力。因此，亟需对这台设备进行针对性的升级，改造成颗粒清洗机。
在原单片清洗机硬件基础上，升级颗粒清洗系统两套，使晶圆表面经过清洗后，能实现硅片表面60nm以上颗粒数<150个（切后8英寸硅片110nm颗粒<3000个）的指标要求。方案如下：系统1通过增加交变相位移兆声波（megapie）机构装置及配套零部件、主机台外操作面增加FFU（风机过滤机组）等手段提升设备的颗粒清洗能力；系统2通过加装化学液循环槽、升级不同路化学液控制系统及更换部分老旧管路来提高金属离子沾污的清洗能力。
本台单片清洗机制造厂商为盛美半导体设备（上海）有限公司。该公司在颗粒清洗方面具有领先的技术实力，其12吋清洗设备已在中芯国际、长江存储、合肥长鑫、韩国海力士等大型制造厂使用，是国内单片清洗设备的头部企业。由于盛美半导体设备（上海）有限公司拥有本台单片清洗机详细的制造数据和升级改造经验，可以更好的完成升级改造工作，故本台单片清洗机的升级改造服务项目拟采用单一来源采购方式，由盛美半导体设备（上海）有限公司提供。
供应商：盛美半导体设备（上海）有限公司。公司地址：中国（上海）自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢。
三、该次升级改造服务项目拟从盛美半导体设备（上海）有限公司采购。
四、征求意见期限从2021年9月22日至2021年9月28日止。
本项目公示期为2021年9月22日至2021年9月28日。有关单位和个人如对公示内容有异议，请在2021年9月28日17:00（北京时间）之前以实名书面（包括联系人、地址、联系电话）形式反馈至中国科学院微电子研究所质量处，地址：北京朝阳区北土城西路3号，邮编：100029，联系电话：82995527。
中国科学院微电子研究所
2021年9月18日
综合信息