第六届国际先进光刻技术研讨会将于10月21日-22日举办

　　IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，研讨即将面临的技术挑战。 

　　研讨会的发言者均为特邀自集成电路制造相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。考虑到当前的实际情况，第六届国际先进光刻技术研讨会将于2022年10月21日-22日举办，并采用线上的方式，欢迎免费参会。 

　　本次会议由中国集成电路创新联盟，中国光学学会，中国电子学会主办；中国科学院微电子研究所，中国光学学会光刻技术专业委员会承办；广东省大湾区集成电路与系统应用研究院，南京诚芯集成电路技术研究院协办；IEEE电气和电子工程师协会提供支持。 

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