最近6年间，韩国半导体设备领域的专利申请冠军由SK海力士(SKHynix)拿下，材料领域则由DongwooFine-Chem称雄。韩国半导体设备业者的技术研发情况较为平均，但材料领域则出现只有某几家企业申请专利的失衡现象。
据ETNews报导，日前韩国专利厅公布过去6年间，半导体设备、材料领域专利申请动向调查，结果由SK海力士与DongwooFine-Chem各自称雄。
半导体设备领域过去6年內，专利申请件数最多的韩国企业依序为SK海力士的13%，三星电子(SamsungElectronics)的12%与Semes的8%。此外，乐金Siltron(LGSiltron)为3%，周星工程(JusungEngineering)、WonikIPS、东部HiTek(DongbuHiTek)、KCTech、LIGADP等各占2%。
其中，前三名申请专利件数就占总数的3分之1。冠军SK海力士申请的专利，以光罩製作与光微影製程为主，与在韩国拥有最多相关专利的尼康(Nikon)，在数量上相差不多。
在外国企业方面，排名依序为东京威力科创(TokyoElectron)的18%，美商应用材料(AppliedMaterials)的6%，科林研发(LamResearch)与尼康各占4%。
另外，半导体材料领域的韩国企业专利，以日本住友化学(Sumitomo)100%持股的韩国子公司DongwooFine-Chem所占比例最高，达24%。其后依序为第一毛织(CheilIndustries)的13%，乐金化学(LGChem)的8%，三星电子的6%，以及SK海力士、乐金显示器(LGDisplay)与S&STech各占3%。
排名前10名公司的申请专利件数达总数的4分之3，但光是第1名DongwooFine-Chem的申请件数，就将近占总申请件数的4分之1，与设备领域比较之下，就可看出申请专利的企业偏少。
传统上，半导体材料领域以日本企业最为强势，不过2013年开始被韩国企业超越。日本2012年以500件专利创下最高纪录，之后2013年与2014年下滑至300件左右；而韩国国內的申请件数则出现成长，2010年为300件，2014年达380余件。
不过若以过去6年的总专利件数比例进行统计，日本仍以47%取胜于韩国的41%。
韩国专利厅表示，不论半导体设备与材料领域，大企业的专利申请都出现连续几年减少的现象；至于中小企业在材料领域的专利数有所成长，设备领域则是持平状态。然而不论海內外，专利登记率仍以大学与研究机构最高。
（来源：DIGITIMES 2014年12月10日）
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