卢维尔

　　姓名： 卢维尔

　　性别： 女

　　职称： 副研究员

　　学历： 博士

　　电子邮件： luweier@ime.ac.cn 

　　通讯地址： 北京市朝阳区北土城西路3号

　　简　　历：

　　教育背景

　　2003.09-2017.06 中国矿业大学（北京） 本科

　　2007.09-2012.06 中国科学院理化技术研究所 博士

　　工作简历

　　2012.07-2014.07 中国科学院微电子研究所 博士后

　　2014.07-2017.03中国科学院微电子研究所 助理研究员

　　2017.03至今 中国科学院微电子研究所副研究员

　　研究方向：

　　微纳材料及结构制备，激光微纳加工，原子层沉积，二维材料制备，薄膜沉积设备研发

　　承担科研项目情况：

　　1.国家自然科学基金青年基金项目， “电场极化作用下石墨烯表面原子层沉积高k栅介质的生长机制研究”， 项目负责人

　　2.中国科学院仪器设备研制项目：“高性能激光脉冲薄膜制备系统”，课题负责人

　　3.北京市科委项目：“脉冲气相沉积技术及大尺寸石墨烯生长机制研究”，项目负责人

　　专利申请

　　申报2项国际专利，授权11项发明专利

　　代表论著：

　　[1] Wei-Er Lu, Yabin Dong, Chaobo Li, Yang Xia, Bangwu Liu, et al. Preparation of ZnO films with variable electric field-assisted atomic layer deposition technique, Applied Surface Sciences, (2014), 303,111-117.

　　[2] Wei-Er Lu, Chaobo Li, Yang Xia, Xuan-Ming Duan et al., Femtosecond laser direct writing of gold nanostructures by ionic liquid assisted multi-photon induced photoreduction. Optical Materials Express 3(10): 1660–1673, (2013).

　　[3] 卢维尔、董亚斌、李超波、夏洋，原子层沉积生长速率的控制研究进展，无机材料学报，29(4), 345-351 (2014).

　　[4] 张思敏，程嵩，卢维尔*，夏洋，原子层沉积生长电学性质可调ZnO保暖工艺，微纳电子技术， 53（9），(2016).

　　[5] 卢维尔，李超波，夏洋 等，原子层沉积技术中电场对ZnO薄膜结晶性能的调制研究, 材料导报， 28, 255-259 (2014).

　　[6] Wei-Er Lu, Xuan-Ming Duan*et al., Two-Photon Induced Photopolymerization Using Photoinitiator with an Intramolecular Radical Quenching Moiety for anolithography, Journal of Nanoscience and Nanotechnology. 13, 1343–1346 (2013).

　　[7] Zhang Yang, Dou Wei, Luo Wei, Lu Weier, Xia Yang. Journal of Semiconductor Journal of Semiconductors, 2013, 34(7):47-51.

　　[8] Wei-Er Lu, Mei-Ling Zheng, Wei-Qiang Chen, Zhen-Sheng Zhao and Xuan-Ming Duan, Preparation of Gold Nanoparticles via Multi-photon Induced Photoreduction of a Mixed Aqueous Solution of HAuCl4 and Glycinate Ionic Liquid, Physical Chemistry and Chemical Physics. 14, 11930-11936 (2012).

　　[9] Wei-Er Lu, Xian-Zi Dong, Wei-Qiang Chen, Zhen-Sheng Zhao and Xuan-Ming Duan, Novel photoinitiator with a radical quenching moiety for confining radical diffusion in two-photon induced photopolymerization, Journal of Materials Chemistry, 21, 5650-5659 (2011).