开展下一代光刻技术和相关理论的研究;开展了电子束和x-射线曝光技术的研究（发展成套的电子束曝光工艺模拟：电子散射、显影模型等）；开展低成本纳米结构制造技术（不同衬底材料的压印模板的研究、研制了纳米压印装置）；探索纳米加工在纳米器件中的应用（声表面波滤波器和传感器）。
开发了灵活的图形编辑软件，开展了先进的光学移相掩模研究，为国家重大项目提供了成套掩模，服务于高科技重大科研任务。十五期间完成了国家863重大专项“100nm步进投影光刻机研制”中的关键技术“100nm移相掩模分系统技术设计”，同时为该重大项目提供了成套测试掩模。开展了X射线、EUV和SCALPEL掩模模板方面的探索工作。制定掩模行业的13项国家标准，前期制定的7项标准已经广泛实施，6项新制定标准已经广泛征询意见进行修订。部分成果获得2013年度国家发明二等奖。
50nm分子器件压印掩模 大面积光学掩模
用于100nm步进投影光刻机研制设计的90°/270°暗场交替型移相掩模
微电子器件与集成技术研发中心