| 专利名称 | 发明人 | 申请号 | 申请日期 |
|---|---|---|---|
| 一种InP HBT器件侧墙的制备方法 | 郭建楠,金智,苏永波,王显泰; | 201110165262.X | 2011-06-20 |
| 一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法 | 冀永辉,余兆安,王琴,龙世兵,刘明,谢常青; | 201110024872.8 | 2011-01-24 |
| 一种光学传感器及其内部的成像器件 | 冀永辉,余兆安,王琴,龙世兵,谢常青,刘明; | 201110022327.5 | 2011-01-20 |
| 一种半导体存储器件的复位方法 | 冀永辉,谢常青,刘明; | 201110028102.0 | 2011-01-26 |
| 埋置有源元件的基板及埋置方法 | 张霞,万里兮; | 201110135359.6 | 2011-05-24 |
| 一种测量涂层耐腐蚀性能的方法 | 王文东,夏洋,李超波,刘邦武,李勇滔,罗小晨; | 201110087749.0 | 2011-04-08 |
| 提高非易失性电阻转变存储器均一性的方法 | 连文泰,刘明,龙世兵,吕杭炳,刘琦; | 201110023200.5 | 2011-01-20 |
| 一种非挥发性存储器件的编程方法 | 霍宗亮,姜丹丹,刘明,张满红,王琴,刘璟,李冬梅; | 201110022638.1 | 2011-01-20 |
| 非挥发性电阻转变存储器 | 连文泰,刘明,龙世兵,吕杭炳,刘琦; | 201110022467.2 | 2011-01-20 |
| 化学机械抛光研磨液动压分布和研磨去除率的确定方法 | 徐勤志,陈岚; | 201110388504.1 | 2011-11-29 |
| 对精简标准单元库进行优化的方法 | 罗海燕,陈岚,尹明会,赵劼; | 201110082736.4 | 2011-04-01 |
| 一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法 | 罗海燕,陈岚,尹明会,赵劼; | 201110082471.8 | 2011-04-01 |
| 参数化单元的实现方法及由该参数化单元构成的系统 | 罗海燕,陈岚,尹明会,赵劼; | 201110137674.2 | 2011-05-26 |
| 纳米晶浮栅存储器及其制备方法 | 金林,刘明,霍宗亮,刘璟,张满红,王琴; | 201110022339.8 | 2011-01-20 |
| 集成电路制作过程中冗余金属填充的方法及半导体器件 | 周隽雄,陈岚,阮文彪,李志刚,王强,叶甜春; | 201110172941.X | 2011-06-24 |
科研产出