| 专利名称 | 发明人 | 申请号 | 申请日期 |
|---|---|---|---|
| 一种SOI NMOS总剂量辐照建模方法 | 卜建辉; | 201010251985.7 | 2010-08-12 |
| 一种SOI体电阻建模方法 | 卜建辉; | 201010217274.8 | 2010-06-23 |
| 一种垂直型NROM存储结构及其制备方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;刘明;刘璟;张满红 | 201010573812.7 | 2010-11-30 |
| 一种对电阻存储器进行编程的电路 | 龙世兵; 刘明;张森;龙世兵;刘琦 | 201010573813.1 | 2010-11-30 |
| 一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 | 李海亮; 谢常青;李海亮;史丽娜;朱效立;刘明 | 201010544430.1 | 2010-11-12 |
| 非挥发性半导体存储单元、器件及制备方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;刘明;张满红 | 201010527589.2 | 2010-10-27 |
| 一种无电容型动态随机访问存储器结构及其制备方法 | 霍宗亮; 霍宗亮;刘明 | 201010251514.6 | 2010-08-11 |
| 一种制作复合半导体薄膜材料的方法 | 梁圣法; 李冬梅;侯成诚;刘明;周文;汪幸;闫学锋;谢常青;霍宗亮 | 201010247619.4 | 2010-08-06 |
| 一种准循环低密度奇偶校验码的通用快速译码协处理器 | 管武; | 201010573814.6 | 2010-11-30 |
| 毫米波频率源装置 | 王显泰; | 201010573809.5 | 2010-04-28 |
| 高频频率源装置 | 王显泰; | 201010544425.0 | 2010-04-28 |
| 控制背孔剖面形状的方法 | 魏珂; | 201010520274.5 | 2010-10-20 |
| 用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置 | 李超波; | 201010219788.7 | 2010-07-07 |
| 一种自动构建器件模型参数优化提取过程的方法 | 吴玉平,陈岚; 叶甜春;陈岚;吴玉平 | 201010249178.1 | 2010-08-09 |
| 时间粗同步和频率精同步的时域联合估计方法 | 吴斌; 吴斌 | 200910092878.1 | 2009-09-09 |
科研产出