| 专利名称: | 干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 90109813.2 |
| 申请日期: | 1990-12-19 |
| 专利号: | CN1052571 |
| 第一发明人: | 罗澎 金钟元 韩阶平 马俊如 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明涉及干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本发明提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构，该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场，由一对包括许多永磁磁铁单元的极板，一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅片刻蚀区形成均匀的强度可调的磁场。本发明磁路结构简单，可降低设备制造成本，提高精度，提高设备可靠性和易操作性。 |
| 其它备注: | |
科研产出