| 专利名称: | 一种用混合技术制作X光光刻掩模的方法 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 94103513.1 |
| 申请日期: | 1994-04-19 |
| 专利号: | CN1110793 |
| 第一发明人: | 高士平 孙宝银 程秀玲 |
| 其它发明人: | |
| 国外申请日期: | |
| 国外申请方式: | |
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| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种用混合技术制作Ｘ光光刻掩模的方法，涉及一种制作含有深亚微米金吸体图形的Ｘ光光刻掩模的方法，特别是涉及一种在掩模基片上制作三层结构，通过特殊设计的常规光刻掩模版的套准光刻和垂直定向刻蚀，采用常规电镀和在图形侧面覆盖金膜相结合的混合技术，制备含有深亚微米线宽的金吸收体图形的Ｘ光光刻掩模的方法。 |
| 其它备注: | |
科研产出