| 专利名称: | 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 |
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| 申请号: | 200610003067.6 |
| 申请日期: | 2006-02-08 |
| 专利号: | CN101017214 |
| 第一发明人: | 谢常青 叶甜春 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 一种X射线衍射光学组件—高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制 作方法，步骤如下：1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层；2. 在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶，得到光栅图形；3.所得片子放在 电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形；4.所得片子去除电子束光 刻胶；5.再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层；6.玻璃上旋涂聚酰亚 胺，并固化；7.在聚酰亚胺表面上淀积金；8.在金表面旋涂X射线光 刻胶，完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影；9.对 X射线光刻后的片子进行金去除；10.去除聚酰亚胺；11.去除X射线 光刻胶；12.背面腐蚀透玻璃；完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的 制作。 |
| 其它备注: | |
科研产出