专利名称: | 基于二氧化硅特性制作热剪切应力传感器的方法 |
申请号: | 200710064878.1 |
申请日期: | 2007-03-28 |
专利号: | CN101274740 |
第一发明人: | 易 亮 欧 毅 陈大鹏 景玉鹏 叶甜春 |
专利摘要: | 本发明涉及微机电技术领域,公开了一种基于二氧化硅特性制作热剪 切应力传感器的方法,该方法包括:A、在硅片的正面和背面淀积二氧化 硅薄膜;B、保护正面,对背面进行光刻,刻蚀形成二氧化硅薄膜窗口以 及划片槽;C、在正面淀积多晶硅薄膜,进行磷重掺杂,光刻,打底胶, 表面淀积铬薄膜,剥离,刻蚀形成多晶硅薄膜电阻条;D、在正面淀积一 层氮化硅薄膜,钝化多晶硅;E、腐蚀背面体硅,形成腔体;F、正面光刻, 打底胶,表面淀积铬薄膜,剥离,刻蚀形成接触孔;G、正面光刻,电子 束蒸发金属铝Al,剥离,形成电极;H、背面与硼硅玻璃进行阳极键合。 利用本发明,减少了热量散失,简化了工艺过程,大大提高了器件灵敏度。 |
科研产出