| 专利名称: | 适用于高速砷化镓基器件欧姆接触的金属合金系统 |
| 专利类别: | |
| 申请号: | 200510071093.8 |
| 申请日期: | 2005-05-24 |
| 专利号: | CN1870224 |
| 第一发明人: | 李海鸥 尹军舰 张海英 和致经 叶甜春 |
| 其它发明人: | |
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| 专利摘要: | 本发明一种适用于高速砷化镓基器件欧姆接触的金属合金系统， 在重掺杂铟镓砷半导体层上与金属形成良好欧姆接触的新型六层金属结 构镍/锗/金/锗/镍/金，在较低的温度360-380度和较短的时间50-80秒 内，于氮气气氛下合金得到低的欧姆接触电阻，可达1.87E-07Ω.cm2，合 金后图形表面形貌光滑平整、图形边缘整齐并且与工艺的兼容性好。本 发明具有成效明显，工艺简单易行，经济适用和可靠性强的优点，容易 在微波、毫米波化合物半导体器件制作中采用和推广。 |
| 其它备注: | |
科研产出