9月6日，微电子所举办“芯·文化”论坛之“青年沙龙”2022年第三期学术交流会，邀请了微电子所高频高压中心王盛凯研究员作题为《漫谈科研之“苦中作乐”》的报告。先导中心高级工程师周娜主持会议。来自先导中心、高频高压中心、感知中心、光电中心和健康电子中心的职工及研究生近30人聆听了报告。
王盛凯首先介绍了研究界面态对新型MOS器件在改善性能和提高可靠性方面存在的重要意义，以及目前界面态存在的挑战，讲解了用于应对以上痛点的MOS界面态“3+1”研究方法，并分享了自身科研、生活经历和心路历程。与会人员就新型MOS界面态研究、项目申请以及科研工作中如何调整心态进行了深入交流与探讨。
本次交流活动为所内青年科研人员提供了交流分享的平台，有利于进一步营造自由、科学、富有激情的学术氛围。
王盛凯毕业于日本东京大学，2021年获评中国科学院青年创新促进会优秀会员，研究方向为半导体MOS界面物理和工艺研究，共发表文章100余篇，出版英文专著2部，授权国内外发明专利45项，主持国家自然科学基金委、中科院等项目十余项。
学术交流会场
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