1月14日，集成电路制造技术全国重点实验室第一届学术委员会第二次会议在中国科学院微电子研究所隆重召开。参加此次会议的有集成电路制造技术重点实验室学术委员会副主任郝跃院士、刘明院士、叶甜春研究员，委员李树深院士、孙凝晖院士、祝宁华院士、罗先刚院士、张荣院士、赵元富研究员、蔡一茂教授、赵志勇副总裁；特邀专家张跃院士、罗毅院士、施毅教授、樊仲维研究员、龙世兵教授；微电子研究所所长、党委书记戴博伟，党委副书记谢光锋，副所长曹立强，全国重点实验室主任李泠，副主任罗军、王启东以及实验室的科研骨干人员等。会议由副所长曹立强和学术委员会副主任刘明院士主持。
会议合影
戴博伟代表实验室依托单位致欢迎辞，对各级领导、各位院士、各位专家的莅临表示诚挚感谢。他表示，此次会议是集成电路制造技术全国重点实验室获得科技部正式批复后的第一次学术委员会，获得全国重点实验室正式批复是对微电子所实验室建设工作的肯定，未来将按照全国重点实验室的相关要求，聚焦集成电路先进制造国家战略需求和科学前沿重大问题，积聚研究所优势力量，开展三维逻辑、三维存储及三维集成制造工艺的基础性、前瞻性、先导性研究，攻克非EUV光刻路径创新的三维集成电路制造工艺与关键技术，支撑我国集成电路的自立自强和可持续发展。
所长、党委书记戴博伟致辞
李泠作了《集成电路制造技术全国重点实验室工作报告》，从实验室的战略定位和目标任务、年度成果概述、工作进展、开放与合作交流、下一阶段工作计划等方面报告了实验室的总体建设情况。实验室孙泽宇研究员、姚佳欣副研究员、岳金山副研究员、陈钏副研究员等四名青年骨干做了学术进展报告。
实验室主任李泠做工作报告
学术委员会委员和特邀专家，围绕重点实验室建设进行了深入讨论，并从面向国家重大需求、明确使命定位和研究方向、加强基础研究、推进平台共享、加强人才队伍建设等方面对实验室发展战略和下一步规划提出了意见建议未来，在各位委员、领导和专家们的支持与指导下,集成电路制造技术全国重点实验室将进一步强化国家战略科技力量使命担当，面向国家集成电路领域重大战略需求和国际科学前沿重大问题，积极开展集成电路制造应用基础研究，建设成为集成电路领域集自主创新、学科交叉与融合、高端人才培养与产业技术服务等功能于一体的国际一流实验室。
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