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半导体光刻胶浅析
2018-12-20
光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应,经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质,其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、 X射线、离子束等曝光源的照射或辐射,从而使光刻胶的溶解度发生变化。针对不同应用需...
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半导体产业格局:行稳而致远,强者将恒强
2018-12-20
目前我国垂直分工模式的芯片产业链初步搭建成形,产业上中下游已然打通,涌现出一批实力较强的代表性本土企业。集成电路是基础性、先导性产业,涉及国家信息安全,做大做强集成电路产业已成为国家产业转型的战略先导。近年来,中国集成电路技术水平与国际差距正在逐步缩小,产业已经进入快速发展的轨道。
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硅光子学的“最后一米”难题
2018-11-30
工程师们认为,通过光纤可以在芯片间传输数据,甚至设想出了光子芯片:很多人都期待将来有一天极速逻辑芯片可以利用光子而非电子。由于普通的硅不适于发光,因此光子来源于从硅芯片分离出来的激光器(不过激光器可以与硅芯片封装在一起) 。用光子元件替换芯片上的电子元件还存在其他障碍,比如,光子元件并不能够提供芯...
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聊聊集成电路发展——鱼和熊掌如何兼得
2018-10-23
2018年,适逢中国改革开放40年,同时又是集成电路发明60年。若论今年的热门话题, “集成电路”注定会位列其间。在关于集成电路的种种议论当中,大家听到最多的大概就是中国“很多集成电路不能生产,只得依赖进口,被别人卡脖子”之类了。不过,我们国家这些年在发展集成电路产业方面已经取得了非常显著的进步,如果单从...
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32纳米芯片生产线 从厂房到芯片(上)
2013-10-18
32纳米制程技术是基于45纳米技术的改良版本。它采用了第四代应变硅技术,针对漏电电流做出了优化,它的基础是第二代高k+金属栅极晶体管。
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32纳米芯片生产线 从厂房到芯片(下)
2013-10-18
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从沙子到芯片,Intel英特尔处理器制作过程
2013-10-16
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芯片是怎样炼成的?(上)
2009-10-29
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芯片是怎样炼成的?(下)
2009-11-03
32纳米制程技术是基于45纳米技术的改良版本。它采用了第四代应变硅技术,针对漏电电流做出了优化,它的基础是第二代高k+金属栅极晶体管。
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微电子技术发展历程-从基础研究到产业化
2013-09-22
诺贝尔奖委员会在2007年的诺贝尔奖授奖公告[ 1 ]指出: “巨磁电阻效应的发现打开了一扇通向技术新世界的大门,在这里,将同时利用电子的电荷自旋特性。新兴的纳米技术是发现巨磁电阻的前提条件,而自旋电子学反过来成为促进纳米技术迅速发展的动力。这为研究领域树立了一个异常清晰的例子:基础研究和新技术是如果交互...
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微电子概述
2009-09-25
微电子学是信息领域的重要基础学科,在信息领域中,微电子学是研究并实现信息获取、传输、储存、处理和输出的科学,是研究信息载体的科学,构成了信息科学的基石。其发展水平直接影响着整个信息技术的发展。微电子学是一门发展极为迅速的学科,高集成度、低功耗、高性能、高可靠性是微电子学的发展方向。微电子学的参透...
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