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专利

专利名称 发明人 申请号 申请日期
半导体器件结构及其制作方法、及半导体鳍制作方法 钟汇才,梁擎擎,罗军,赵超; PCT/CN2011/082420 2011-11-18
石墨烯纳米带的制造方法、MOSFET及其制造方法 朱慧珑,梁擎擎,骆志炯,尹海洲; PCT/CN2011/082418 2011-11-18
半导体场效应晶体管的制备方法 周华杰,徐秋霞; PCT/CN2011/082421 2011-11-18
xMOSFET及其制造方法 朱慧珑,许淼,梁擎擎; PCT/CN2011/077856 2011-08-01
MOSFET及其制造方法 朱慧珑,许淼,梁擎擎; PCT/CN2011/077917 2011-08-02
半导体器件结构及其制作方法 钟汇才,罗军,梁擎擎,朱慧珑; PCT/CN2011/079040 2011-08-29
一种半导体结构及其制造方法 朱慧珑,梁擎擎,骆志炯,尹海洲; PCT/CN2011/077908 2011-08-02
半导体器件结构及其制作方法 钟汇才,梁擎擎,尹海洲; PCT/CN2011/078221 2011-08-10
半导体器件及半导体存储装置 梁擎擎,童小东,钟汇才,朱慧珑; PCT/CN2011/078209 2011-08-10
器件电学特性相关性分析方法及器件结构优化方法 梁擎擎,朱慧珑,钟汇才; PCT/CN2011/078204 2011-08-10
MOSFET及其制造方法 朱慧珑,梁擎擎,骆志炯,尹海洲; PCT/CN2011/077858 2011-08-01
MOSFET及其制造方法 朱慧珑,梁擎擎,尹海洲,骆志炯; PCT/CN2011/077864 2011-08-01
一种半导体器件的替代栅集成方法 许高博,徐秋霞; PCT/CN2011/077905 2011-08-02
一种半导体器件的制备方法 周华杰,徐秋霞; PCT/CN2011/072527 2011-04-08
栅极结构及其制造方法 钟汇才,骆志炯,梁擎擎; PCT/CN2011/073308 2011-04-26