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微电子所在计算光刻研究方面取得显著进展
2016-03-31
近日，微电子所集成电路先导工艺研发中心韦亚一课题组在与武汉新芯集成电路制造公司光刻部门以及计算光刻软件商ASML和Mentor Graphics合作中，对光源和掩模联合优化、设计与工艺联合优化、焦...
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微电子所举办2016年第二期“芯·文化”论坛
2016-03-31
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新加坡南洋理工大学陈家陞来微电子所作学术交流
2016-03-31
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微电子所青促会小组召开2015年度工作总结会
2016-03-30
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美国密歇根理工大学Hu Shiyan博士来微电子所做学术交流
2016-03-25
综合信息