| 专利名称 | 发明人 | 申请号 | 申请日期 |
|---|---|---|---|
| 基于数字补偿技术消除成像器件阈值偏差影响的方法 | 冀永辉,王凤虎,丁川,于兆安,王琴,龙世兵,刘明; | 200910124878.5 | 2009-12-25 |
| 基于超临界二氧化碳微乳液干燥的装置及方法 | 王磊,景玉鹏; | 201010242153.9 | 2010-07-30 |
| 一种微透镜阵列的制备方法 | 刘键,夏洋,吴茹菲,李勇滔; | 201110208104.8 | 2011-07-25 |
| 一种对肖特基势垒高度进行镜像力补偿修正的方法 | 王鑫华; | 200910078557.6 | 2009-02-25 |
| OFDM整数频偏与符号细同步的频域联合估计方法 | 侯华俊; | 200910077367.2 | 2009-02-19 |
| 一种高吞吐率的LDPC译码器 | 郭琨; | 200910081094.9 | 2009-04-01 |
| 电子束正性光刻胶Zep 520掩蔽介质刻蚀的方法 | 徐秋霞,周华杰; | 200910236719.4 | 2009-10-28 |
| 一种在锗衬底上制备金属-氧化物-半导体电容的方法 | 胡爱斌,徐秋霞; | 200910242767.4 | 2009-12-16 |
| 半导体结构及其形成方法 | 骆志炯,尹海洲,朱慧珑; | 200910242509.6 | 2009-12-15 |
| 由单晶硅材料构成的微米尺度网格结构及其制作方法 | 焦斌斌,陈大鹏,叶甜春; | 200910090124.2 | 2009-07-29 |
| 一种用于PMOS器件的金属栅功函数的调节方法 | 徐秋霞,周华杰; | 200910241539.5 | 2009-11-25 |
| 一种无CMP的适用于后栅工艺的平坦化制备工艺 | 徐秋霞,钟兴华; | 200910236720.7 | 2009-10-28 |
| 一种钼铝氮金属栅的制备方法 | 许高博,徐秋霞; | 200910087809.1 | 2009-06-26 |
| 用于大口径成像的复合型光子筛及其制作方法 | 谢常青,潘一鸣,朱效立,贾佳,刘明; | 200910235465.4 | 2009-10-14 |
| 存储器及其制作方法 | 刘明,王琴,胡媛,郭婷婷; | 200910078245.5 | 2009-02-23 |
科研产出