专利名称 | 发明人 | 申请号 | 申请日期 |
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一种可调带通滤波器 | 吴茹菲 张海英 尹军舰 ; | 200810104759.9 | 2008-04-23 |
一种制备镂空的聚酰亚胺蒸发掩模漏版的方法 | 甄丽娟 商立伟 刘 明 刘兴华 涂德钰 刘 舸 ; | 200810104760.1 | 2008-04-23 |
基于共蒸法制备硅纳米晶超晶格结构的方法 | 贾 锐 李维龙 陈 晨 刘 明 陈宝钦 谢常青 ; | 200810104757.X | 2008-04-23 |
一种改善SOI电路ESD防护网络用的电阻结构 | 曾传滨 李 晶 海潮和 李多力 韩郑生 ; | 200810104231.1 | 2008-04-16 |
一种绝缘体上硅电路ESD全局保护结构 | 曾传滨 海潮和 李 晶 李多力 韩郑生 ; | 200810104230.7 | 2008-04-16 |
一种提高集成电路芯片抗静电能力的封装方法 | 曾传滨 海潮和 李 晶 李多力 韩郑生 ; | 200810104225.6 | 2008-04-16 |
HBT工艺中介质平面平坦化的方法 | 金 智 刘新宇 ; | 200810104228.X | 2008-04-16 |
一种用于监控介质平坦化过程的方法 | 金 智 刘新宇 ; | 200810104224.1 | 2008-04-16 |
InGaAs/InP HBT中亚微米发射极的湿法腐蚀方法 | 金 智 刘新宇 ; | 200810104227.5 | 2008-04-16 |
利用S18系列正性光刻胶制作倒梯形剖面结构的方法 | 金 智 ; | 200810104223.7 | 2008-04-16 |
一种PIN管的非线性等效电路 | 吴茹菲 张海英 尹军舰 ; | 200810104226.0 | 2008-04-16 |
一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法 | 金 智 刘新宇 ; | 200810104229.4 | 2008-04-16 |
一种制作空气桥的方法 | 金 智 ; | 200810104222.2 | 2008-04-16 |
基于方波导的2×2单面双鳍线阵的制作方法 | 武 锦 欧阳思华 刘新宇 阎跃鹏 ; | 200810103650.3 | 2008-04-09 |
npn型InGaAs/InP DHBT外延层结构 | 金 智 刘新宇 ; | 200810103253.6 | 2008-04-02 |
科研产出