| 专利名称: | 一种钴－自对准硅化物的方法 |
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| 申请号: | 00135752.2 |
| 申请日期: | 2000-12-19 |
| 专利号: | CN1360340 |
| 第一发明人: | 徐秋霞 钱鹤 季红浩 柴淑敏 |
| 其它发明人: | |
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| 专利证书号: | |
| 专利摘要: | 一种钴—自对准硅化物的方法，本方法具有五个步骤：步骤1：采用钴/钛/硅固相反应结构；步骤2：采用氢氟酸/异内醇溶液的清洗；步骤3：采用溅射钴/钛膜前的真空腔内退火处理；步骤4：低应力双层钴/钛复合膜的溅射；步骤5：钴—自对准硅化物工艺。 |
| 其它备注: | |
科研产出