专利名称: 使用FinFET的非易失性存储器件及其制造方法
专利类别: 国际专利
申请号: PCT/CN2010/001481
申请日期: 2010-09-25
专利号: US8981454
第一发明人: 朱慧珑;尹海洲;骆志炯
实施情况: 授权