SOG层和光抗蚀剂层的反应离子刻蚀方法 --中国科学院微电子研究所

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专利名称:	SOG层和光抗蚀剂层的反应离子刻蚀方法
专利类别:	发明专利
申请号:	201010601185.3
申请日期:	2010-12-22
专利号:	201010601185.3
第一发明人:	殷华湘;徐秋霞;贺晓彬;陈大鹏
其它发明人:
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:	授权
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:

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