| 专利名称: | 提高隔离氧化物CMP均匀性的方法 |
| 专利类别: | 发明专利 |
| 申请号: | 201110257855.9 |
| 申请日期: | 2011-09-01 |
| 专利号: | 201110257855.9 |
| 第一发明人: | 王桂磊;杨涛;李俊峰;赵超 |
| 实施情况: | 授权 |
| 专利名称: | 提高隔离氧化物CMP均匀性的方法 |
| 专利类别: | 发明专利 |
| 申请号: | 201110257855.9 |
| 申请日期: | 2011-09-01 |
| 专利号: | 201110257855.9 |
| 第一发明人: | 王桂磊;杨涛;李俊峰;赵超 |
| 实施情况: | 授权 |
科研产出