中科院EDA中心举办Why Design for Test (DFT) and Where It Goes技术研讨会

　　3月22日，中科院EDA中心举办Why Design for Test (DFT) and Where It Goes（可测试性设计及其前瞻）技术研讨会，美国Mentor Graphics公司可测试性设计前瞻性研究组资深工程师赖李洋博士作技术报告，来自计算所、中科微公司及微电子所20余名科研人员参加研讨会。

　　赖李洋博士的报告围绕可测试性设计技术和数字电路的测试性问题，介绍了DFT特征在后硅验证和调试中的作用，物理故障分析、良率分析和可制造性设计中的故障诊断数据算法。报告还阐述了贯穿于整个设计流程的DFT解决方案，以及这些解决方案如何有效提高产品质量同时降低测试成本并提速生产，帮助IC公司更加迅速地将产品推向市场。与会人员与赖李洋博士还就DFT相关问题进行了深入交流。

　　赖李洋博士毕业于美国伊利诺伊大学电子与计算机工程学系，毕业后一直任职于美国Mentor Graphics公司，主要从事集成电路可测试性设计（Design For Test），验证，故障诊断（Diagnosis），Silicon Debug等研究。

研讨会现场