常州瑞择微电子科技有限公司董事长兼总经理徐飞来微电子所作学术交流

　　2月9日，常州瑞择微电子科技有限公司董事长兼总经理徐飞来微电子所作学术交流，并作了题为《光掩模制造、清洗及清洗设备》的报告。三室副主任谢常青研究员主持报告会，全所科研人员、研究生共40余人参加了报告会。 

　　徐飞在报告中详细介绍了光掩模制造流程、光掩模清洗工艺和光掩模清洗设备。掩模是微纳加工技术的基准，是连接设计与制造之间的桥梁与纽带，掩模制造水平直接决定了微电子/光电子和微纳加工的精度与质量。光掩模制作技术大体上可分为传统的刻图缩微制版技术系统、计算机辅助设计、光学图形发生器自动制版技术系统和以电子束扫描成像为代表的各种短波长射线成像曝光技术系统。光掩模版的质量是影响集成电路功能和芯片成品率的重要因素之一。为保证光掩模版的质量，必须进行严格控制掩模缺陷密度、掩模版精度和图形质量，而清洗则影响掩模缺陷密度。徐飞简要介绍了常州瑞择微电子科技有限公司的清洗工艺和特色设备，并就光掩模的制造、清洗等同与会人员进行了交流。 

　　徐飞于2007年入选常州市第一批引进领军型海外留学归国创业人才项目，同年，回国创建了常州瑞择微电子科技有限公司，担任董事长兼总经理。他主持包括国家科技重大专项02专项在内的多项科研项目，自主研发的130纳米级光掩模清洗设备等打破了国外垄断，填补了国内空白，技术指标均已达到甚至超过国际领先水平。