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合作交流

德国Nanoscribe公司CEO Martin Hermatschweiler来微电子所访问交流

稿件来源: 发布时间:2015-07-21

  7月16日,德国Nanoscribe公司CEO Martin Hermatschweiler应邀来微电子所访问交流,并作了题为《微纳米尺度3D打印》的学术报告。微电子所科研人员和研究生共40余人参加了交流会。交流会由微电子所陈宝钦研究员主持。 

  Martin Hermatschweiler在报告中详细介绍了纳米级别微型Photonic Professional GT 3D打印机的相关技术原理。该型3D打印机可制作纳米级别的微型结构,通过CCD传感器对曝光、扫描产生的原稿的光学模拟图像信号进行光电转换,将经过数字技术处理的图像数码信号输入到激光调制器,调制后的激光束对被充电的感光鼓进行扫描,在感光鼓上形成静电潜像,图像处理装置对诸如图像模式、放大、图像重迭等作数码处理后,再经过显影、转印、定影等步骤,完成整个印刷过程。此外,该型打印机还采用了基于双光子聚合的3D打印技术,让激光瞬时通过脉冲调制聚合光敏材料,制作出自我支撑的微型(纳米)结构。与会人员就微纳米级3D打印相关技术问题同Martin Hermatschweiler进行了交流。 

  Nanoscribe公司位于德国卡尔斯鲁厄市,专业研制和生产微纳米级3D打印机,是激光光刻工艺技术的全球领导者。 

 

交流会现场